XP POWER電子束光刻電源解決方案
E-Beam Lithography Power Solutions
XP Power 為電子束光刻應用提供高穩(wěn)定性、高精度的專業(yè)高壓電源解決方案。 我們的產(chǎn)品具有超低紋波、短路保護和高穩(wěn)定性等特性，滿足半導體制造和科研應用的嚴苛需求。
E-Beam Lithography Power Solutions
XP Power 為電子束光刻應用提供高穩(wěn)定性、高精度的專業(yè)高壓電源解決方案。 我們的產(chǎn)品具有超低紋波、短路保護和高穩(wěn)定性等特性，滿足半導體制造和科研應用的嚴苛需求。
電子束光刻技術是半導體制造和納米加工領域的關鍵工藝。XP Power 提供集成化定制的高壓電子束電源， 具有出色的高壓穩(wěn)定性、超低紋波和完善的短路保護功能。這些特性確保了精確可靠的電子束控制， 有效避免因電源不穩(wěn)定導致的工藝問題，保護設備安全，提升生產(chǎn)效率。
采用先進控制技術，提供卓越的電壓穩(wěn)定性，確保電子束精確控制，有效避免工藝波動導致的良率問題。
清潔、嚴格 regulation 的輸出確保先進光刻和科研設計中的精確束流定位，滿足高精度應用需求。
集成完善的短路保護功能，有效保護敏感設備安全，避免因屏蔽問題導致的設備損壞和生產(chǎn)損失。
高度穩(wěn)定的開關模式高壓電源，具有超低紋波特性。由于高開關頻率，電源在輸出電壓中具有低殘余紋波、高穩(wěn)定性、良好的 regulation 動態(tài)性能，同時儲存能量較少。
專為電子束應用設計的精密高壓直流電源，具備高精度輸出和出色的穩(wěn)定性。適用于需要精確電壓控制的半導體制造和科研應用。
大功率高壓直流電源解決方案，適用于需要更高電壓和功率的電子束應用。提供卓越的電壓穩(wěn)定性和可靠性，滿足嚴苛的工業(yè)應用需求。
專為電子束濺射應用設計的集成化電源系統(tǒng)，提供完善的短路保護和卓越的穩(wěn)定性。確保電子束光刻和濺射應用中的安全穩(wěn)定運行，有效保護設備并提升生產(chǎn)效率。
晶圓光刻、芯片制造
納米加工、材料研究
MEMS、NANO器件
電子束蒸發(fā)、濺射